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电容屏在制作时的工艺技巧
来源:深圳市迈晶电子有限公司 添加时间:2018-09-01
电容屏的简易制作工艺
以下是两种电容屏的比较:
Single-ITOGlass电容触摸屏:
Double-ITOGlass电容屏:
DITO和SITO对比:
DITO的制造技术比较复杂一点,但是它的稳定些、透光度要好,一般适用在相对于比较高端的应用,据了解,苹果采用的就是DITO的工艺技术;SITO的工艺比DITO的要简单,但是它的稳定性能比较差,现在还在持续的改进之中;FILM的透光性相对于比较差,而且它的边框比较厚,美观度也极其的不理想,但是成本优势非常的明显。
DITO技术工艺的主要难度在于:1.工序不仅繁琐而且更加的复杂;
2.上下两层的ITO光刻对位的精度极高;
3.生产的过程之中,玻璃两面都必须要保证高度的清洁
DITO对于检测IC上面也是有很高的要求的,但是由于两层的ITO间距比较大(相隔了一层玻璃,而且不是像SITO那样仅仅相隔绝缘层的),层之间的电容比较小,检测的灵敏度也不高,但是对于IC的精度要求比较高。
SITO的工序精密度和复杂度,都比DITO低一些,因此成本也比较低,但是也有两个弱点:
1.两层的ITO先后都光刻在玻璃的同一面上,附着的强度比DITO要低,性能的整体稳定性也比DITO要低
2.如上一段的分析,SITO的层间电容比较大,检测的精度也不如DITO。
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