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电容屏在制作时的工艺技巧

来源：深圳市迈晶电子有限公司添加时间：2018-09-01

电容屏的简易制作工艺

以下是两种电容屏的比较：Single-ITOGlass电容触摸屏：Double-ITOGlass电容屏：

DITO和SITO对比：DITO的制造技术比较复杂一点，但是它的稳定些、透光度要好，一般适用在相对于比较高端的应用，据了解，苹果采用的就是DITO的工艺技术；SITO的工艺比DITO的要简单，但是它的稳定性能比较差，现在还在持续的改进之中；FILM的透光性相对于比较差，而且它的边框比较厚，美观度也极其的不理想，但是成本优势非常的明显。

DITO技术工艺的主要难度在于：1.工序不仅繁琐而且更加的复杂；2.上下两层的ITO光刻对位的精度极高；3.生产的过程之中，玻璃两面都必须要保证高度的清洁

DITO对于检测IC上面也是有很高的要求的，但是由于两层的ITO间距比较大（相隔了一层玻璃，而且不是像SITO那样仅仅相隔绝缘层的），层之间的电容比较小，检测的灵敏度也不高，但是对于IC的精度要求比较高。

SITO的工序精密度和复杂度，都比DITO低一些，因此成本也比较低，但是也有两个弱点：1.两层的ITO先后都光刻在玻璃的同一面上，附着的强度比DITO要低，性能的整体稳定性也比DITO要低2.如上一段的分析，SITO的层间电容比较大，检测的精度也不如DITO。

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